★在形成晶體結(jié)構(gòu)的半導(dǎo)體中，人為地?fù)饺胩囟ǖ碾s質(zhì)元素，導(dǎo)電性能具有可控性。
　　★在光照和熱輻射條件下，其導(dǎo)電性有明顯的變化。
　　晶格：晶體中的原子在空間形成排列整齊的點(diǎn)陣，稱為晶格。
　　共價(jià)鍵結(jié)構(gòu)：相鄰的兩個(gè)原子的一對最外層電子（即價(jià)電子）不但各自圍繞自身所屬的原子核運(yùn)動，而且出現(xiàn)在相鄰原子所屬的軌道上，成為共用電子，構(gòu)成共價(jià)鍵。
　　自由電子的形成：在常溫下，少數(shù)的價(jià)電子由于熱運(yùn)動獲得足夠的能量，掙脫共價(jià)鍵的束縛變成為自由電子。
　　空穴：價(jià)電子掙脫共價(jià)鍵的束縛變成為自由電子而留下一個(gè)空位置稱空穴。
　　電子電流：在外加電場的作用下，自由電子產(chǎn)生定向移動，形成電子電流。
　　空穴電流：價(jià)電子按一定的方向依次填補(bǔ)空穴（即空穴也產(chǎn)生定向移動），形成空穴電流。
　　本征半導(dǎo)體的電流：電子電流+空穴電流。自由電子和空穴所帶電荷極性不同，它們運(yùn)動方向相反。
　　載流子：運(yùn)載電荷的粒子稱為載流子。
　　導(dǎo)體電的特點(diǎn)：導(dǎo)體導(dǎo)電只有一種載流子，即自由電子導(dǎo)電。
　　本征半導(dǎo)體電的特點(diǎn)：本征半導(dǎo)體有兩種載流子，即自由電子和空穴均參與導(dǎo)電。
　　本征激發(fā)：半導(dǎo)體在熱激發(fā)下產(chǎn)生自由電子和空穴的現(xiàn)象稱為本征激發(fā)。
　　復(fù)合：自由電子在運(yùn)動的過程中如果與空穴相遇就會填補(bǔ)空穴，使兩者同時(shí)消失，這種現(xiàn)象稱為復(fù)合。
　　動態(tài)平衡：在一定的溫度下，本征激發(fā)所產(chǎn)生的自由電子與空穴對，與復(fù)合的自由電子與空穴對數(shù)目相等，達(dá)到動態(tài)平衡。
　　載流子的濃度與溫度的關(guān)系：溫度一定，本征半導(dǎo)體中載流子的濃度是一定的，并且自由電子與空穴的濃度相等。當(dāng)溫度升高時(shí)，熱運(yùn)動加劇，掙脫共價(jià)鍵束縛的自由電子增多，空穴也隨之增多（即載流子的濃度升高），導(dǎo)電性能增強(qiáng)；當(dāng)溫度降低，則載流子的濃度降低，導(dǎo)電性能變差。
　　結(jié)論：本征半導(dǎo)體的導(dǎo)電性能與溫度有關(guān)。半導(dǎo)體材料性能對溫度的敏感性，可制作熱敏和光敏器件，又造成半導(dǎo)體器件溫度穩(wěn)定性差的原因。
　　雜質(zhì)半導(dǎo)體：通過擴(kuò)散工藝，在本征半導(dǎo)體中摻入少量合適的雜質(zhì)元素，可得到雜質(zhì)半導(dǎo)體。
　　N型半導(dǎo)體：在純凈的硅晶體中摻入五價(jià)元素（如磷），使之取代晶格中硅原子的位置，就形成了N型半導(dǎo)體。
　　多數(shù)載流子：N型半導(dǎo)體中，自由電子的濃度大于空穴的濃度，稱為多數(shù)載流子，簡稱多子。
　　少數(shù)載流子：N型半導(dǎo)體中，空穴為少數(shù)載流子，簡稱少子。
　　施子原子：雜質(zhì)原子可以提供電子，稱施子原子。
　　N型半導(dǎo)體的導(dǎo)電特性：它是靠自由電子導(dǎo)電，摻入的雜質(zhì)越多，多子（自由電子）的濃度就越高，導(dǎo)電性能也就越強(qiáng)。
　　P型半導(dǎo)體：在純凈的硅晶體中摻入三價(jià)元素（如硼），使之取代晶格中硅原子的位置，形成P型半導(dǎo)體。
　　多子：P型半導(dǎo)體中，多子為空穴。
　　少子：P型半導(dǎo)體中，少子為電子。
　　受主原子：雜質(zhì)原子中的空位吸收電子，稱受主原子。
　　P型半導(dǎo)體的導(dǎo)電特性：摻入的雜質(zhì)越多，多子（空穴）的濃度就越高，導(dǎo)電性能也就越強(qiáng)。
　　結(jié)論：
　　多子的濃度決定于雜質(zhì)濃度。
　　少子的濃度決定于溫度。
　　PN結(jié)的形成：將P型半導(dǎo)體與N型半導(dǎo)體制作在同一塊硅片上，在它們的交界面就形成PN結(jié)。
　　PN結(jié)的特點(diǎn)：具有單向?qū)щ娦浴?BR>　　擴(kuò)散運(yùn)動：物質(zhì)總是從濃度高的地方向濃度低的地方運(yùn)動，這種由于濃度差而產(chǎn)生的運(yùn)動稱為擴(kuò)散運(yùn)動。
　　空間電荷區(qū)：擴(kuò)散到P區(qū)的自由電子與空穴復(fù)合，而擴(kuò)散到N區(qū)的空穴與自由電子復(fù)合，所以在交界面附近多子的濃度下降，P區(qū)出現(xiàn)負(fù)離子區(qū)，N區(qū)出現(xiàn)正離子區(qū)，它們是不能移動，稱為空間電荷區(qū)。
　　電場形成：空間電荷區(qū)形成內(nèi)電場。
　　空間電荷加寬，內(nèi)電場增強(qiáng)，其方向由N區(qū)指向P區(qū)，阻止擴(kuò)散運(yùn)動的進(jìn)行。
　　漂移運(yùn)動：在電場力作用下，載流子的運(yùn)動稱漂移運(yùn)動。
　　PN結(jié)的形成過程：如圖所示，將P型半導(dǎo)體與N型半導(dǎo)體制作在同一塊硅片上，在無外電場和其它激發(fā)作用下，參與擴(kuò)散運(yùn)動的多子數(shù)目等于參與漂移運(yùn)動的少子數(shù)目，從而達(dá)到動態(tài)平衡，形成PN結(jié)。　　 　　電位差：空間電荷區(qū)具有一定的寬度，形成電位差Uho，電流為零。
　　耗盡層：絕大部分空間電荷區(qū)內(nèi)自由電子和空穴的數(shù)目都非常少，在分析PN結(jié)時(shí)常忽略載流子的作用，而只考慮離子區(qū)的電荷，稱耗盡層。
　　PN結(jié)的單向?qū)щ娦?

PN結(jié)的形成過程